材料科学 不同抛光工艺条件对试样表面硬度测试的影响
区别
LU回复:PMG· 4年前
采用三种表面抛光工艺，制备低碳钢Q235压入试样：1#为化学腐蚀（试样纵截面），2#（试样纵截面）和4#（试样正面）为电解抛光，3#为机械抛光（试样纵截面）。
使用Nano Indenter XP和Berkovich压头进行测量，压入深度为3μm，热漂移速率小于0.05nm/s。
从图中可看出，2#和4#硬度相当，说明电解抛光消除试样在研磨过程中形成的表面硬化层。在压入深度约500nm以内，机械抛光的硬度最高，其次是化学抛光，均明显高于电解抛光试样表层的硬度，说明机械抛光和化学抛光的式样表层存在硬化效应。因此，对于金属材料，需根据不同的压入深度，选择适合的抛光工艺。
为降低试样表面硬化和粗糙度的影响，需仔细抛光。机械抛光可显著降低金属表面试样的粗糙度，但会在试样表面产生变形层，导致应变硬化。电解抛光是电化学的溶解过程，没有机械载荷的作用，在降低粗糙度方面不如机械抛光。化学腐蚀的效果处于两种抛光工艺之间。对于金属样品的抛光，详见ASTM E380。
LU回复:LU· 4年前
