半导体微纳加工与测试 纳米转移技术
原理
LU回复:PMG· 3年前
先将有机聚合物材料涂覆到印模上，待压印材料均匀填充印模浮雕图形表面后，再将印模压到一个平面衬底上。移开印模，使印模上的压印结构转移到平面衬底上。转移的方式有两种，一种是针对非紫外固化有机聚合物材料（PMMS或PS），可以通过热压转移，一种是针对紫外固化材料或负型光刻胶，可通过紫外光照固化转移。如果印模蚀非透明材料制作的，如硅或镍，可利用透明衬底。
原理
先将有机聚合物材料涂覆到印模上，待压印材料均匀填充印模浮雕图形表面后，再将印模压到一个平面衬底上。移开印模，使印模上的压印结构转移到平面衬底上。转移的方式有两种，一种是针对非紫外固化有机聚合物材料（PMMS或PS），可以通过热压转移，一种是针对紫外固化材料或负型光刻胶，可通过紫外光照固化转移。如果印模蚀非透明材料制作的，如硅或镍，可利用透明衬底。
