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不同抛光工艺条件对试样表面硬度测试的影响
PMG 回复:采用三种表面抛光工艺，制备低碳钢Q235压入试样：1#为化学腐蚀（试样纵截面），2#（试样纵截面）和4#（试样正面）为电解抛光，3#为机械抛光（试样纵截面）。
使用Nano Indenter XP和Berkovich压头进行测量，压入深度为3μm，热漂移速率小于0.05nm/s。
从图中可看出，2#和4#硬度相当，说明电解抛光消除试样在研磨过程中形成的表面硬化层。在压入深度约500nm以内，机械抛光的硬度最高，其次是化学抛光，均明显高于电解抛光试样表层的硬度，说明机械抛光和化学抛光的式样表层存在硬化效应。因此，对于金属材料，需根据不同的压入深度，选择适合的抛光工艺。
为降低试样表面硬化和粗糙度的影响，需仔细抛光。机械抛光可显著降低金属表面试样的粗糙度，但会在试样表面产生变形层，导致应变硬化。电解抛光是电化学的溶解过程，没有机械载荷的作用，在降低粗糙度方面不如机械抛光。化学腐蚀的效果处于两种抛光工艺之间。对于金属样品的抛光，详见ASTM E380。
纳米压入仪的测试流程
PMG 回复:根据GB/T 22458的规定，测试流程如下：
（1）安装试样。试样表面应垂直于压入载荷。
（2）选择测试位置。
（3）确定接触零点。
（4）规定测试循环。包括压头接近试样表面的速度、驱动属性、最大的载荷和深度、数据采集速率、热漂移速率。
（5）执行循环测试。记录载荷-位移-时间数据。
（6）修正数据。修正接触零点、热漂移和仪器柔度。
（7）分析结果。
（8）测试结果的不确定性。
（9）测试报告。
试样表面探测在对纳米压入测量过程中的影响
PMG 回复:对纳米量级压入深度的测量，确定表面位置的为小误差会对测试结果产生很大的偏差。因为硬度与接触深度的平方成反比。
对于每次测试，都应制定接触零点，其位置的不确定性不应超过最大压入深度的1%，超过则应在测试报告中记录。
推荐两种方法确定接触零点：
（1）外推拟合函数法，适合较大压入深度测量。
（2）判断测试的接触载荷或接触刚度的首个骤增点的方法。适合较小压入深度测量。
第一次使用氮化硅窗口，有什么注意事项？
MWW 回复:（1） 保持膜面朝上
如果薄膜面朝下放置，就有可能使薄膜破裂或表面受到污染。建议膜在任何时候都保持面朝上。通过肉眼很容易区分正面和背面，凹坑(背面)、膜(正面)。
（2） 用软尖镊子（如尖端为碳纤维材料的防静电镊子）从吸附盒中取出窗口。
先用镊子轻轻压住窗口的两个平边，然后轻轻旋转装置，将其从吸附盒中取出。一定要将膜面朝上放置，以免破损。
